A.泵浦源
B.發(fā)光二極管(LED)式
C.激光
D.紅光源
第1題
實(shí)驗(yàn)?zāi)康?p> (1)通過實(shí)驗(yàn),了解激光二極管(LD)的發(fā)光原理和相關(guān)特性;
(2)掌握激光二極管(LD)的P—I特性與模式參數(shù)等的測(cè)量方法。
實(shí)驗(yàn)內(nèi)容
(1)測(cè)試LD的P—I特性;
(2)測(cè)量LD的閾值電流;
(3)測(cè)試LD的模式參數(shù)。
實(shí)驗(yàn)設(shè)備器材
(1)1550nm F—P半導(dǎo)體激光器光發(fā)射主機(jī)
(2)光譜分析儀
(3)光功率計(jì)
(4)毫安表與萬用表
(5)光纖連接器
(6)1550nm F—P半導(dǎo)體激光器等元器件
實(shí)驗(yàn)原理
1.半導(dǎo)體激光二極管(LD)的工作原理
LD通過受激輻射發(fā)光,是一種閾值器件。LD不僅能產(chǎn)生高功率(≥10mW)輻射,而且輸出光發(fā)散角窄,與單模光纖的耦合效率高(約30%~50%),輻射光譜線窄(△λ=0.1~1.0nm),適用于高比特工作,載流子復(fù)合壽命短,能進(jìn)行高速(>20GHz)直接調(diào)制,非常適合于作高速長(zhǎng)距離光纖通信系統(tǒng)的光源。
使粒子數(shù)反轉(zhuǎn)從而產(chǎn)生光增益是激光器穩(wěn)定工作的必要條件,對(duì)于處于泵浦條件下的原子系統(tǒng),當(dāng)滿足粒子數(shù)反轉(zhuǎn)條件時(shí),將會(huì)產(chǎn)生占優(yōu)勢(shì)的(超過受激吸收)受激輻射。在半導(dǎo)體激光器中,這個(gè)條件是通過向P型和N型限制層重?fù)诫s,使費(fèi)米能級(jí)間隔在PN結(jié)正向偏置下超過帶隙實(shí)現(xiàn)的。當(dāng)有源層載流子濃度超過一定值(稱為透明值),就實(shí)現(xiàn)了粒子數(shù)反轉(zhuǎn),由此在有源區(qū)產(chǎn)生了光增益,在半導(dǎo)體內(nèi)傳播的輸入信號(hào)將得到放大。如果將增益介質(zhì)放入光學(xué)諧振腔中提供反饋,就可以得到穩(wěn)定的激光輸出。
2.LD的P—I特性與閾值電流
LD的P—I特性曲線如下圖所示。LD有一閾值電流Ith,當(dāng)I>Ith時(shí)才發(fā)出激光。在Ith以上,光功率P隨I線性增加。
閾值電流是評(píng)定半導(dǎo)體激光器性能的一個(gè)主要參數(shù),本實(shí)驗(yàn)采用兩段直線擬合法對(duì)其進(jìn)行測(cè)定。如下圖所示,將閾值前與后的兩段直線分別延長(zhǎng)并相交,其交點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的電流即為閾值電流Ith
3.LD的光譜特性
激光二極管的發(fā)射光譜取決于激光器光腔的特定參數(shù),大多數(shù)常規(guī)的增益或折射率導(dǎo)引器件具有多個(gè)峰的光譜,如下圖所示。激光二極管的波長(zhǎng)可以定義為它的光譜的統(tǒng)計(jì)加權(quán)。在規(guī)定輸出光功率時(shí),光譜內(nèi)若干發(fā)射模式中最大強(qiáng)度的光譜波長(zhǎng)被定義為峰值波長(zhǎng)λP,對(duì)諸如DFB、DBR型LD來說,它的λP相當(dāng)明顯。一個(gè)激光二極管能夠維持的光譜線數(shù)目取決于光腔的結(jié)構(gòu)和工作電流。
4.LD的調(diào)制特性
在LD的調(diào)制過程中存在以下兩種物理機(jī)制影響其調(diào)制特性:
(1)增益飽和效應(yīng)。當(dāng)注入電流增大,因而光子數(shù)P增大時(shí),增益G出現(xiàn)飽和現(xiàn)象,飽和的物理機(jī)制源于空間燒孔、譜燒孔、載流子加熱和雙光子吸收等因素。譜燒孔也稱帶內(nèi)增益飽和。這些因素導(dǎo)致P增大時(shí)G的減小。
(2)線性調(diào)頻效應(yīng)。當(dāng)注入電流為時(shí)變電流對(duì)激光器進(jìn)行調(diào)制時(shí),載流子數(shù)、光增益和有源區(qū)折射率均隨之而變,載流子數(shù)的變化導(dǎo)致模折射率五和傳播常數(shù)的變化,因此產(chǎn)生了相位調(diào)制,它導(dǎo)致了與單縱模相關(guān)的光(頻)譜加寬,又稱線寬增強(qiáng)因子。
5.LD的模式參數(shù)
半導(dǎo)體激光器的模式分為空間模和縱模(軸模)。空間模描述圍繞輸出光束軸線某處的光強(qiáng)分布,或者是空間幾何位置上的光強(qiáng)(或光功率)的分布,也稱遠(yuǎn)場(chǎng)分布;縱模則表示一種頻譜,它反映所發(fā)射的光束其功率在不同頻率(或波長(zhǎng))分量上的分布。二者都可能是單模或者出現(xiàn)多個(gè)模式(多模)。邊發(fā)射半導(dǎo)體激光器具有非圓對(duì)稱的波導(dǎo)結(jié)構(gòu),而且在垂直于異質(zhì)結(jié)平面方向(稱橫向)和平行于結(jié)平面方向(稱側(cè)向)有不同的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)和光場(chǎng)限制情況。橫向上都是異質(zhì)結(jié)構(gòu)成的折射率波導(dǎo),而在側(cè)向目前多是折射率波導(dǎo),但也可采取增益波導(dǎo),因此半導(dǎo)體激光器的空間模式又有橫模與側(cè)模之分。下圖表示這兩種空間模式。
由于有源層厚度很薄(約為0.15μm),都能保證在單橫模工作;而在側(cè)向,則其寬度相對(duì)較寬,因而視其寬度可能出現(xiàn)多側(cè)模。如果在這兩個(gè)方向都能以單模(或稱基模)工作,則為理想的TEM00模,此時(shí)出現(xiàn)光強(qiáng)峰值在光束中心且呈“單瓣”。這種光束的光束發(fā)散角最小、亮度最高,能與光纖有效地耦合,也能通過簡(jiǎn)單的光學(xué)系統(tǒng)聚焦到較小的斑點(diǎn),這對(duì)激光器的應(yīng)用是非常有利的。相反,若有源區(qū)寬度較寬,則發(fā)光面上的光場(chǎng)(稱近場(chǎng))在側(cè)向表現(xiàn)出多光絲,好似一些并行的發(fā)光絲,在遠(yuǎn)場(chǎng)的側(cè)向則有對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)分布,如下圖所示。這種多側(cè)模的出現(xiàn)以及它的不穩(wěn)定性,易使激光器的P—I寺性曲線發(fā)生“扭折”(kink),使P—I線性變壞,這對(duì)信號(hào)的模擬調(diào)制不利;同時(shí)多側(cè)模也影響與光纖高效率的耦合,側(cè)模的不穩(wěn)定性也影響出纖功率的穩(wěn)定性;不能將這種多側(cè)模的激光束聚焦成小的光斑。
由于半導(dǎo)體激光器發(fā)光區(qū)幾何尺寸的不對(duì)稱,其遠(yuǎn)場(chǎng)呈橢圓狀,其長(zhǎng)、短軸分別對(duì)應(yīng)于橫向與側(cè)向。在許多應(yīng)用中需用光學(xué)系統(tǒng)對(duì)這種非圓對(duì)稱的遠(yuǎn)場(chǎng)光斑進(jìn)行圓化處理。
如果半導(dǎo)體激光器發(fā)射的是理想的高斯光束,應(yīng)有如下的光強(qiáng)分布:
I(r)=Imaxexp[-2(r/ω)2] (13-1)
式中,I(r)是在半徑為叫的高斯光束束腰內(nèi)徑向尺寸為r處的光強(qiáng),Imax為束腰內(nèi)的最大光強(qiáng)。顯然,當(dāng)r=ω時(shí),該處的光強(qiáng)為Imax的1/e2(即光強(qiáng)峰值的13.5%),如下圖所示。高斯光束峰值光強(qiáng)之半處的發(fā)散角全角(FM-HW)為
θ=4λ/πω=1.27λ/ω (13-2)
半導(dǎo)體激光器的遠(yuǎn)場(chǎng)并非嚴(yán)格的高斯分布,有較大的在橫向和側(cè)向不對(duì)稱的光束發(fā)散角,由于半導(dǎo)體激光器有源層較薄,因而在橫向有較大的發(fā)散角θ⊥,可表示為
θ⊥=4.05()d/λ/[1+4.05(
)(d/λ)2/1.2] (13-3)
式中,n2和d分別為激光器有源層的折射率和厚度;n1為限制層的折射率;λ為激射波長(zhǎng)。顯然,當(dāng)d很小時(shí),可忽略式(13-3)分母中的第二項(xiàng),則有
θ⊥≈4.05()d/λ (13-4)
由式(13-4)可見,θ⊥隨d的增加而增加,這可解釋為隨著d的減少,光場(chǎng)向兩側(cè)有源層擴(kuò)展,等效于加厚了有源層,而使θ⊥減少。當(dāng)有源層厚度能與波長(zhǎng)相比擬,但仍工作在基橫模時(shí),可以忽略式(13-3)分母中的1而近似為
θ⊥≈1.2λ/d (13-5)
式(13-5)與式(13-2)的一致性,說明在一定的有源厚度范圍內(nèi),橫向光場(chǎng)具有較好的高斯光束特點(diǎn)。在此范圍內(nèi),θ⊥隨d的增加而減少,可用衍射理論解釋。
在量子阱半導(dǎo)體激光器中,由于有高的微分增益dg/dN,允許適當(dāng)放松對(duì)有源層與波導(dǎo)模之間耦合的要求而允許模場(chǎng)的適當(dāng)擴(kuò)展,因而有比厚有源層半導(dǎo)體激光器小的θ⊥。
可以通過外部光學(xué)系統(tǒng)來壓縮半導(dǎo)體激光器的發(fā)散角以實(shí)現(xiàn)相對(duì)準(zhǔn)直的光束,但這是要以一定的光功率損耗為代價(jià)的。如果將從半導(dǎo)體激光器發(fā)出的激光近似視為有高斯分布的點(diǎn)光源,可以采取下圖所示的準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)。
6.LD光斑的圓化處理
準(zhǔn)直透鏡的數(shù)值孔徑應(yīng)大于半導(dǎo)體激光器的有效數(shù)值孔徑,經(jīng)準(zhǔn)直出來的激光束乃至聚焦后的焦斑仍是橢圓。如需得到小而圓的光點(diǎn),尚需對(duì)準(zhǔn)直后的光束進(jìn)行圓化處理。用節(jié)距(pitch)為1/4的自聚焦透鏡可方便地對(duì)半導(dǎo)體激光器出射光進(jìn)行準(zhǔn)直,如下圖所示。
半導(dǎo)體激光器存在像散,像散是像差的一種。當(dāng)用光學(xué)系統(tǒng)對(duì)半導(dǎo)體激光器解理面上的近場(chǎng)成像時(shí),就會(huì)發(fā)現(xiàn),由于像散的存在會(huì)在焦線上出現(xiàn)兩個(gè)像點(diǎn)。半導(dǎo)體激光器在橫向都是利用有源層兩邊折射率差所形成的光波導(dǎo)效應(yīng)對(duì)有源區(qū)光子進(jìn)行限制的,而在側(cè)向有增益波導(dǎo)與折射率波導(dǎo)兩種光限制類型。早期的條形激光器是增益波導(dǎo)型的,都有非平面波前。對(duì)目前大量采用的側(cè)向折射率波導(dǎo)結(jié)構(gòu),在垂直于結(jié)平面方向的高斯光束的束腰在解理面上,且在束腰處為平面波前,如下圖(a)所示。而當(dāng)側(cè)向的波導(dǎo)機(jī)構(gòu)是由復(fù)折射率的虛數(shù)部分起主要作用時(shí)(即增益波導(dǎo)),則在該方向的光場(chǎng)分布如圖(b)所示,在腔內(nèi)距腔面為D(稱像散量)的地方出現(xiàn)虛腰,這也是外部觀察者所能看到的最小近場(chǎng)寬度,真正的束腰在腔中心。因此,從傳播方向看去,兩個(gè)方向的合成波前呈圓柱面,如圖(c)所示。這種輸出光是像散的。其影響是用球透鏡對(duì)解理腔面成像時(shí),虛腰的像面與腔面的像面(即橫向光場(chǎng)束腰的像面)不對(duì)應(yīng)同一處。其后果是遠(yuǎn)場(chǎng)分布出現(xiàn)“兔耳”狀,在早期的氧化條形激光器中出現(xiàn)這種遠(yuǎn)場(chǎng)情況。同時(shí),像差的存在使側(cè)向模式增多,光譜線寬加寬。這給應(yīng)用帶來很大困難,除非采取消像差的措施,否則很難用一般的光學(xué)系統(tǒng)聚焦到很小的光斑,焦斑上光場(chǎng)分布不均勻,也很難使激光器與單模光纖高效率地耦合。即使是側(cè)向有折射率波導(dǎo)限制的情況,由于載流子側(cè)向分布的影響,也很難使上述表征像散大小的D值為零,一般在2μm以上。
半導(dǎo)體激光器的激射波長(zhǎng)是由禁帶寬度Eg決定的,然而這一波長(zhǎng)也必須滿足諧振腔內(nèi)的駐波條件,諧振條件決定著激光激射波長(zhǎng)的精細(xì)結(jié)構(gòu)或縱模模譜。因?yàn)椴煌袷幉ㄩL(zhǎng)間不存在損耗的差別,而它們的增益差又小,故除了由禁帶寬度Eg所決定的波長(zhǎng)能在腔內(nèi)振蕩外,在它周圍還有一些滿足諧振腔駐波條件的波長(zhǎng)也可能在有源介質(zhì)的增益帶寬內(nèi)獲得足夠的增益而起振。因而有可能存在一系列振蕩波長(zhǎng),每一波長(zhǎng)構(gòu)成一個(gè)振蕩模式,稱之為腔模或縱模,并由它構(gòu)成一個(gè)縱模譜,如下圖所示。這些縱模之間的間隔△λ和△為:
△λ=λ2/2ngL (13-6)
△=c/2ngL (13-7)
式中,λ為激射波長(zhǎng);c為光速;ng為有源材料的群折射率。
一般的半導(dǎo)體激光器其縱模間隔為0.5~1nm,而激光介質(zhì)的增益譜寬為數(shù)十納米,因而有可能出現(xiàn)多縱模振蕩。然而傳輸速率高(如大于622Mb/s)的光纖通信系統(tǒng),要求半導(dǎo)體激光器是單縱模的。這一方面是為了避免由于光功率在各個(gè)縱模之間隨機(jī)分配所產(chǎn)生的所謂模分配噪聲;另一方面縱模的減少也是得到很窄的光譜線寬所必須的,而窄的線寬有利于減少在高數(shù)據(jù)傳輸速率光纖通信系統(tǒng)中光纖色散的影響。即使有些激光器連續(xù)工作時(shí)是單縱模的,但在高速調(diào)制下由于載流子的瞬態(tài)效應(yīng),而使主模兩旁的邊模達(dá)到閾值增益而出現(xiàn)多縱模振蕩,因此必須考慮縱模的控制。為了得到單縱模,應(yīng)弄清縱模的模譜,影響單縱模存在的因素,才能設(shè)法得到所要求的單縱模激光器。
7.影響LD縱模譜的因素
半導(dǎo)體激光器的有源區(qū)材料特性和器件結(jié)構(gòu)都對(duì)縱模譜產(chǎn)生影響,以下就一些主要影響因素進(jìn)行分析。
(1)自發(fā)發(fā)射因子的影響
自發(fā)發(fā)射對(duì)半導(dǎo)體激光器的主要影響是:
①使P—I特性曲線“變軟”;
②在穩(wěn)態(tài)條件下振蕩模的噪聲譜和光譜加寬;
③閾值以上的邊模抑制比下降;
④在直接調(diào)制下張弛振蕩頻率降低。
一般來說,半導(dǎo)體激光器有比氣體和固體激光器高約5個(gè)數(shù)量級(jí)的自發(fā)發(fā)射因子(10-4)。由下圖看出,縱模譜隨γ變化很大。當(dāng)γ=10-5時(shí),幾乎所有的激光功率集中在一個(gè)縱模內(nèi),即單縱模工作;當(dāng)γ=10-4時(shí),只有約80%的光功率集中在主模上,而其余的由旁模所分配;當(dāng)γ=10-3時(shí),則有更多的縱模參與功率分配。另一方面,若自發(fā)發(fā)射因子γ→1(如在微腔情況),則出現(xiàn)量變到質(zhì)變的情況,此時(shí)每一個(gè)自發(fā)發(fā)射光子引發(fā)出一個(gè)受激發(fā)射光子,卻能得到很好的單縱模。
(2)模譜與電流密度的關(guān)系
若激光器具有標(biāo)準(zhǔn)腔長(zhǎng)(250μm)和典型的γ=10-4,實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),在小于閾值的低注入電流時(shí),模譜的包絡(luò)宛如自發(fā)發(fā)射譜;當(dāng)電流增加到閾值以上,模譜包絡(luò)變窄,各縱模開始競(jìng)爭(zhēng),對(duì)應(yīng)于增益譜中心的主模(q=0)的增長(zhǎng)速率比鄰近縱模快。隨電流增加,激光能量向主模轉(zhuǎn)移,而且峰值波長(zhǎng)發(fā)生紅移現(xiàn)象。根據(jù)不同結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體激光器,這種紅移量約為0.1nm/mA左右。
(3)器件結(jié)構(gòu)對(duì)模譜的影響
側(cè)向有折射率波導(dǎo)的激光器比增益波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的激光器表現(xiàn)出更好的縱模特性。下圖表示的是波長(zhǎng)為780nm的兩種側(cè)向波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的縱模譜。這說明對(duì)有源區(qū)內(nèi)載流子限制能力越強(qiáng),腔內(nèi)的微分增益越高,不但橫模(包括側(cè)模)特性得到改善,縱模特性同樣向單縱模方向轉(zhuǎn)化。
在一般的法布里一珀羅(FP)諧振腔中,各個(gè)縱模分量在腔內(nèi)得到反饋的量是相同的。在分布反饋(DFB)、分布布拉格反射(DBR)和有外部光柵諧振腔的結(jié)構(gòu)中,諧振腔具有對(duì)某一波長(zhǎng)選擇反饋的作用,因而有好的縱模特性。下圖比較的是在1300nm波長(zhǎng)、側(cè)向折射率波導(dǎo)的FP腔和DFB腔的縱模特性。若諧振腔長(zhǎng)很短,則縱模間隔很大。其3dB增益帶寬內(nèi)允許振蕩的縱模數(shù)減少。當(dāng)主模兩邊的次模隨著腔長(zhǎng)的縮短而移出3dB增益帶寬之外,則可出現(xiàn)單縱模振蕩。
(4)溫度對(duì)縱模譜的影響
由于有源層材料的禁帶寬度Eg隨溫度增加而變窄,使激射波長(zhǎng)發(fā)生紅移,其紅移量約為0.2~0.3nm/℃,與器件的結(jié)構(gòu)和有源區(qū)材料有關(guān)。借此特性,可以用適當(dāng)?shù)臏囟瓤刂苼砦⒄{(diào)激光的峰值激射波長(zhǎng),以滿足對(duì)波長(zhǎng)要求嚴(yán)格的一些應(yīng)用。和穩(wěn)定輸出功率一樣,如需要有穩(wěn)定的工作波長(zhǎng),對(duì)半導(dǎo)體激光器需進(jìn)行恒溫控制。下圖表示溫度對(duì)峰值波長(zhǎng)的影響。
第4題
A. 光檢測(cè)器、光放大器、激光器;
B. 半導(dǎo)體激光器 LD、半導(dǎo)體發(fā)光二極管 LED、半導(dǎo)體分布反饋激光器 DFB;
C. PIN 光電二極管、激光、熒光;
D. 半導(dǎo)體激光器、光檢測(cè)器、發(fā)光二極管。
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