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[單選題]

晶硅電池片生產工藝中，擴散工序的目的是（）

A.制備pn結

B.吸除部分金屬雜質

C.去除磷硅玻璃

D.織構化表面

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第1題

晶硅電池片生產工藝中，刻蝕工序的目的是（ ）

A、去除磷硅玻璃

B、制備pn結

C、去除背面和四周反型層

D、使上下表面絕緣

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第2題

晶硅電池片生產工藝中，鍍膜工序的目的是（ ）

A、去除磷硅玻璃

B、織構化表面

C、制備增透減反膜

D、體鈍化

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第3題

晶硅電池片生產工藝中，制絨工序的目的是（ ）

A、去除表面機械損傷層

B、去除表面油污

C、制備反型層

D、破壞光滑表面

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第4題

晶硅電池片生產工藝中，絲網印刷工序的目的是（ ）

A、制備正面電極

B、制備背面電極

C、制備背電場

D、減小接觸電阻

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第5題

晶硅電池片生產工藝中，制絨實現減反射的原理是（ ）

A、全反射

B、光陷阱

C、漫反射

D、增透減反

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第6題

以下哪個不是晶硅電池片進行封裝的目的（ ）

A、保護薄脆的電池片，增加機械強度

B、避免電池片被水汽等腐蝕

C、便于安裝

D、提高效率

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第7題

晶硅電池片的濕法刻蝕，通常選用（ ）和（ ）配置腐蝕液。

A、硝酸

B、氫氟酸

C、鹽酸

D、硫酸

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第8題

晶硅電池片封裝的前表材料，要求透光率高、防水、防腐蝕、絕緣 。
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第9題

寫出太陽能電池片的生產工藝制造過程？
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第10題

單片多晶硅電池片的功率比單晶硅的高
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